金属材料タンタルの応用

金属材料タンタルの応用

タンタルターゲットは通常ベアターゲットと呼ばれます。まず、銅バックターゲットで溶接し、次に半導体または光スパッタリングを実行し、タンタル原子を酸化物の形で基板材料上に堆積させてスパッタリングコーティングを実現します。半導体業界では現在、主に金属タンタル（Ta）が物理蒸着（PVD）コーティングとバリア層の形成を通じてターゲット材料として使用されています。

ご存知のとおり、金属タンタルの性能は比較的安定していますが、比較的粒径が細かい金属タンタル粉末は比較的活性であり、室温で酸素や窒素と反応するため、タンタル中の酸素や窒素などの不純物の含有量が増加します。粉。高品質のタンタルターゲットを得るには、まずタンタル粉末中の不純物含有量を低減し、タンタル粉末の純度を高める必要がある。タンタル粉末およびタンタルターゲットの品質を向上させるには、タンタル粉末の粒径を小さくすることが非常に必要です。

タンタルターゲットは、主に半導体コーティング、光学コーティング、装飾、フラットパネルディスプレイ、機能性コーティングなどの光情報記憶空間産業、自動車ガラスや建築用ガラスなどのガラスコーティング産業、光通信などで使用されています。

半導体

物理蒸着 (PVD) プロセスを使用して、タンタル スパッタリング ターゲットを半導体基板上に「スパッタリング」し、銅の相互接続を保護する薄膜拡散バリアを形成します。タンタル スパッタリング ターゲットは、磁気記憶媒体、インクジェット プリンタ ヘッド、フラット パネル ディスプレイなど、他のさまざまな製品にも使用されています。

エンジンタービンブレード

高い融点と耐食性の特性により、合金用途に最適です。タンタルは、主に航空機エンジンや陸上ガスタービンのタービンブレードなどのニッケル基超合金に使用されています。

化学処理装置

耐腐食性と高温に対する非常に高い耐性により、この金属は化学および製薬産業の容器、パイプ、バルブ、熱交換器のライニングに理想的な構造材料となります。

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