金属回転ターゲット
製品説明
メタルロータリーターゲット
直交する磁場と電場が、スパッタリング ターゲット (カソード) とアノードの間に適用されます。そして、高真空チャンバー内に必要な不活性ガス (通常は Ar ガス) を満たします。電界の作用下で、Ar ガスは陽イオンと電子にイオン化されます。ターゲットに一定の負の高電圧が印加され、ターゲットから放出された電子が磁場の影響を受け、作動ガスの電離確率が増加し、カソード付近に高密度プラズマが形成され、Ar イオンが影響を受けます。ローレンツ力で。次に、加速してターゲット表面に飛行し、高速でターゲット表面に衝突するため、ターゲット上のスパッタされた原子は運動量変換の原理に従い、ターゲット表面から基板に飛行し、高運動エネルギー膜を堆積します。
ターゲット材の利用率をさらに向上させるため、より利用効率の高い回転カソードを設計し、スパッタリングコーティングにはチューブ状のターゲット材を使用しています。スパッタリング装置の改良により、ターゲットを平板から筒状に変更する必要があり、筒状の回転ターゲットの利用率は70%にも達し、平板ターゲットの利用率が低いという問題は大幅に解決されました。
| 製品名 | 金属回転ターゲット |
| 素材 | W、Mo、Ta、Ni、Ti、Zr、Cr、TiAl |
| 売れ筋サイズ | ID-133/OD-157×3191mm ID-133/OD-157×3855mm ID-160/OD-180×1800mm 顧客の特定の要件に従って処理することもできます |
| MOQ | 3個 |
| パッケージ | プライ木製ケース |
※各種メタルターゲットを中心に製作しておりますので、詳しくはご相談ください。
応用
スパッタリングコーティングは、新しいタイプの物理蒸着コーティング方法です。蒸着法と比較すると、明らかな利点があります。
多くの面で。金属スパッタリングターゲットは、多くの分野で使用されています。回転ターゲットの主な用途。
■太陽電池
■建築用ガラス
■自動車ガラス
■半導体
■薄型テレビなど
注文情報
お問い合わせとご注文には、次の情報を含める必要があります。
☑対象スペックID×OD×L(mm)。
☑数量が必要です。
☑より特別なニーズについては、お問い合わせください。
